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一、概念差異
1.真空鍍膜是指在高真空條（tiáo）件下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍物體(金屬、半導體或絕緣（yuán）體)表（biǎo）麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空（kōng）鍍鉻等。
2. 光學鍍膜（mó）是指在光學元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工藝。在光學元件表麵塗（tú）膜的目的（de）是為了減（jiǎn）少或增加光的反射（shè）、分（fèn）束、分色、過濾、偏振等要求。常（cháng）用的包覆方法有真空包（bāo）覆(物理包覆的一種)和化學包覆。
二、原則差異
1. 真空鍍膜是真空應用的一（yī）個重要方麵，它以真空（kōng）技術為基礎，利用物理或化學方（fāng）法，吸收（shōu）了電子束、分子束、離子束、等離子體（tǐ）束、射頻、磁控管等一係列新技術，為科學研（yán）究和實際生產提供了薄膜製備的新工藝。簡單地說，就是在（zài）真（zhēn）空中蒸發或濺射金屬、合金或化合（hé）物（wù），使（shǐ）其凝固並（bìng）沉積在塗層物（wù）體(稱為基材、襯底或襯底)上的方法。
2. 光（guāng）的幹（gàn）涉在薄膜光學中有著廣（guǎng）泛的應用。光學薄膜技術常用的方法是（shì）利用真（zhēn）空濺射在玻璃（lí）基板上塗覆薄膜，一般用來控製基板對入射光（guāng）束的反射率和透射率（lǜ），以滿足不同的需（xū）要。為了消除光學元件表麵的反射損耗（hào），提高成像質量，在表麵塗覆一層或多層透明的介電膜，稱為（wéi）防反射膜或（huò）防（fáng）反射膜。
隨著激光（guāng）技術的發展，對膜層的反射率和透射（shè）率有了不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各種應用（yòng）的需要，采用高反射膜製造偏光反射膜、彩（cǎi）色光譜膜、冷光（guāng）膜、幹涉濾光片等。光學（xué）元件表麵塗覆後，光在膜層上多（duō）次反射和透射（shè），形成多束幹涉。通過控製膜層的折射率和厚度，可以得到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。
三、方法和材料的差異
1. 材（cái）料采用真空鍍膜法:
(1)真空蒸發鍍膜:對待鍍膜基（jī）材進行清洗後，置於鍍膜（mó）室內，將其（qí）抽離，並將（jiāng）膜材加熱至高溫，使蒸汽達到13.3Pa左（zuǒ）右，蒸汽分子飛向基材表麵，凝結成薄膜。
(2)陰極濺射鍍:將待鍍基材置於陰極（jí）對麵，將惰性氣體(如氬氣)引入真（zhēn）空室，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰極接2000V直流電源（yuán）激發輝光放電。帶（dài）正電的氬離子與陰極碰撞，使陰極射出原子。濺落的原子通過惰性氣（qì）氛沉積在襯底（dǐ）上，形成薄膜。
(3)化學氣相沉積:通過（guò）對選定的金屬或有（yǒu）機（jī）化合物（wù）進行熱分解得到沉積薄膜（mó）的過程。
(4)離子（zǐ）鍍（dù）:離子鍍本質上是真空蒸發和陰極濺射的有機結合，結合了兩者（zhě）的工藝特點。各種塗裝方式的優缺點（diǎn）如表6-9所示。
2. 光學鍍膜方法材料
(1)氟（fú）化鎂:一種純度（dù）高的無色四方結晶粉末（mò）。用它來製作光學（xué）鍍（dù）膜可以提高透（tòu）光率，防止坍塌點。
(2)二氧化矽:無色透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用它製備高質量的SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光（guāng）。
(3)氧化鋯:白色重晶（jīng）態，高折射率，耐高溫。化學性質穩定，純度高。可用於製備無斷裂點的高質量氧化鋯塗層。
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