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主要型號：
型號 | 功率(kW) | 工作峰值電壓（V） | 最（zuì）大工作電流（A） | 最（zuì）大峰值電（A） | 主機外形尺（chǐ）寸 | 冷卻方式 |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主要特點（diǎn）：
A具有行動穩定電壓（yā）功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明（míng）顯提高鍍（dù）件的（de）成品率、表麵光潔度和膜層結合（hé）力。
B 電壓脈（mò）衝（chōng）輸出峰值（zhí）可達3500V。
C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬（kuān）度25uS)。
D 可選擇手動控製/模擬量接口控（kòng）製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負載匹配能力，既（jì）保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴（kuò）展功能，方便實現自動化控製。
主（zhǔ）要用途：
高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時（shí）的離子加速等。
社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是越（yuè）來（lái）越廣泛了，真空鍍（dù）膜技術（shù）是一種新穎的材（cái）料合成與加工的新（xīn）技術，是表麵工程技術（shù）領域（yù）的重（chóng）要組成部（bù）分。隨著全球製造業高速（sù）發展，真空鍍膜技術（shù）應用越來越廣泛。從半（bàn）導體集（jí）成電路、LED、顯示器（qì）、觸（chù）摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的（de）發（fā）展來看，對（duì）真空（kōng）鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包（bāo）括製造大規模集成電路的電學膜；數字式（shì）縱向（xiàng）與橫向均（jun1）可磁化的數據記錄儲存（cún）膜；充分展示和應用各種光學特性的（de）光學膜；計（jì）算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示（shì）器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上應（yīng）用的玻璃鍍（dù）膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜（mó）；工、模（mó）具表麵上應用的耐磨超（chāo）硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜（mó）等。對於國內真空（kōng）鍍膜設備製造企業發展建議（yì）如下：
1、目前實體經濟走勢整體（tǐ）疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續（xù）探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構優（yōu）化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研（yán）發擁有自主知識（shí）產權的新產品新工藝，提（tí）高產（chǎn）品質量和服（fú）務水平。
2、依（yī）托信息化發展趨勢，堅持“以信息（xī）化帶動工（gōng）業（yè）化，以工業化促進信息化”，走出一條（tiáo）科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙（wū）染少、人力資源優勢得到充分（fèn）發揮（huī）的新（xīn）型工業化路子。
3、依（yī）托政府支持，大力加強與擁有行（háng）業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合（hé）作，使得新品能迅速推向市場。
真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設（shè）備行業等製造業將（jiāng）以信息化融合（hé）為重心（xīn），依靠技術進步，更加注重技術能力（lì）積累，製造偏向服務型，向世界真空（kōng）鍍膜設備行業等製（zhì）造業價值鏈高端挺進。
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