MSDP單極脈衝磁控濺射電源

所屬分類：MSDP單（dān）極（jí）脈衝（chōng）磁控濺射電源
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發布日期：2020-10-21 09:43:33

我要詢（xún）價

產品概述（shù）
性能特點
技術參數

主要型號：

型號	功率 (kW)	最大工作電（diàn）流（liú）(A)	外形尺（chǐ）寸	冷卻方式	空載電壓 (V)	工作電壓 (V)
MSDP-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	200~800V
MSDP-20k	20	25	1單元
MSDP-30k	30	37.5	2單（dān）元
MSDP-40k	40	50	2單元

主要特點：
A 明顯改善靶麵電荷（hé）積（jī）累（lèi）現象，減小（xiǎo）濺射表麵的打火次（cì）數，提高膜層質量。
B 具（jù）有平（píng）均電源穩定功能，具有理想的（de）電壓陡降特性，
充分滿（mǎn）足磁控濺射工藝（yì）過程的連續性。
C 空（kōng）載電壓≥1000V，工（gōng）作電壓200~800V。
D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴（yán）格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展（zhǎn）功能，方便實現（xiàn）自動化控（kòng）製。

主要用途：

單極脈衝（chōng）磁控濺射適用（yòng）於（yú）金（jīn）屬、合金及石墨等靶材鍍（dù）製金屬膜、碳膜和（hé）部分氧化物、氮（dàn）化物（wù）及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須（xū）進行預清（qīng）洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達到分子級。在（zài）清洗槽中分別放置各種（zhǒng）清洗液，並采用超聲波加強清洗（xǐ）效果，當鏡片清洗完後，放（fàng）進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後（hòu）的清洗是在真空艙內，在此過程中要特（tè）別注（zhù）意避免（miǎn）空氣中的灰塵和垃圾再（zài）黏附在鏡片表麵。最後（hòu）的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離（lí）子（zǐ）），完成此道清（qīng）洗工序後即進行減反射（shè）膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什（shí）麽在（zài）現在會應用那麽多（duō）呢，有（yǒu）哪些明顯的效果？

真空鍍膜（mó）電源

概念的區別：

1、真空鍍膜（mó）是指在高真空（kōng）的條件下加熱金屬或非（fēi）金屬材料，使其蒸（zhēng）發並（bìng）凝結於鍍件（金屬（shǔ）、半導體或絕緣體）表麵（miàn）而形成薄膜的一（yī）種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜（mó）是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層（céng）)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件（jiàn）表麵鍍膜的目的（de）是為了達到減少或增加光的反（fǎn）射、分（fèn）束、分色、濾光、偏振（zhèn）等要求。常用的鍍膜法有真（zhēn）空鍍膜（mó）(物理鍍膜的一（yī）種)和化學鍍膜。