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主要（yào）型號（hào）：
型號 | 功率(kW) | 工作峰值電壓（V） | 最大工作電（diàn）流（A） | 最大峰值電（A） | 主機外（wài）形尺寸 | 冷卻方式 |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主要特點：
A具有行動穩定電壓功（gōng）能，具（jù）有理（lǐ）想的電（diàn）壓陡降特性（xìng），
有效抑製工（gōng）件表麵打火，明顯提高鍍件的（de）成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
B 電壓脈（mò）衝輸出峰值可達3500V。
C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最（zuì） 大脈衝寬度25uS)。
D 可選擇手動控製/模擬（nǐ）量接口控製，可選（xuǎn）配RS485通訊接（jiē）口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關（guān）器件，
體積（jī）小、重量輕、功能全、性能穩定（dìng）可靠，生（shēng）產工藝嚴（yán）格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證（zhèng）鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵（miàn）清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製。
主要用途：
高（gāo）壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝（yì）時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟（hōng）擊和鍍（dù）膜時的離子加（jiā）速等（děng）。
社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的（de）運用範圍是越（yuè）來越廣泛（fàn）了，真（zhēn）空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技術（shù）領域的重要組成部分。隨著全球製造業（yè）高速發展，真空鍍膜技術應用越（yuè）來越廣（guǎng）泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太（tài）陽能光伏、化工（gōng）、製藥等（děng）行業的發展來（lái）看，對真空鍍膜設備、技術材料（liào）需求都在不斷增加，包括（kuò）製造大（dà）規模集成電路的（de）電學膜；數字式縱向與橫向（xiàng）均可磁化的數據記錄儲存（cún）膜；充分展示和應用各種（zhǒng）光學特性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光膜（mó）；TFT、PDP平麵（miàn）顯（xiǎn）示（shì）器上（shàng）的導電膜（mó）和（hé）增透膜；建築、汽車行（háng）業上（shàng）應用的玻璃鍍（dù）膜（mó）和裝飾膜；包裝（zhuāng）領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各（gè）種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的（de）耐磨超硬膜；納米材料研究（jiū）方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製（zhì）造企（qǐ）業發展建議如下：
1、目（mù）前實體經濟走勢整體疲弱，複（fù）蘇充（chōng）滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真（zhēn）空鍍膜（mó）設備製造企業應著力進行（háng）產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新（xīn）產品新工藝，提高產品質量和服務（wù）水平。
2、依托信息化發展（zhǎn）趨勢，堅持（chí）“以信息化帶動工業化，以工業化（huà）促（cù）進信息化”，走出一條科技含量高、經（jīng）濟效益好、資源消耗（hào）低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。
3、依托政府（fǔ）支持，大力加強（qiáng）與擁（yōng）有行業先進技術和工藝水平的科（kē）研院所（suǒ）、大型企業、高校合作，使得新（xīn）品（pǐn）能（néng）迅速（sù）推向市（shì）場。
真空鍍膜技（jì）術及（jí）設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化（huà）融合（hé）為重心，依靠技術進步，更加注重技術能（néng）力積累，製造偏向服務（wù）型，向世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。
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