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主要型號：
型號 | 功率(kW) | 工作峰值電壓（V） | 最大工作電流（A） | 最大（dà）峰值電（A） | 主機外形尺寸 | 冷卻方（fāng）式 |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主要特點（diǎn）：
A具有行動穩定電（diàn）壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工件（jiàn）表麵打火（huǒ），明顯提高鍍（dù）件的成品率、表麵光潔度（dù）和（hé）膜層（céng）結（jié）合（hé）力。
B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
D 可選擇手動控（kòng）製/模擬量接（jiē）口控（kòng）製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采用先進的（de）PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器（qì）件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係（xì）列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實（shí）現自動化控製。
主要用途：
高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗（xǐ）、鍍膜前的離子轟（hōng）擊（jī）和鍍膜時的離（lí）子加速等。
社會不斷發展（zhǎn），技術也是不斷得在創新（xīn）。真空鍍（dù）膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種（zhǒng）新穎的（de）材料合成與加工（gōng）的新技術，是表麵工程技術領（lǐng）域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空（kōng）鍍膜技術（shù）應用越（yuè）來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯（xiǎn）示器（qì）、觸摸屏、太陽能（néng）光（guāng）伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電（diàn）學膜；數（shù）字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示（shì）和應用各種光學特性的光學膜；計算機（jī）顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車（chē）行業上應用的玻璃鍍膜和（hé）裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功（gōng）能膜（mó）；工、模具（jù）表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性（xìng）薄膜（mó）等。對於國內真空（kōng）鍍（dù）膜（mó）設備製造企業發展建議如下：
1、目前（qián）實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業（yè）結構優化升級，重質量（liàng）、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產（chǎn）權的新產（chǎn）品新工（gōng）藝，提高產（chǎn）品質量和服務水平。
2、依托信（xìn）息化發展（zhǎn）趨（qū）勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量（liàng）高、經濟效益（yì）好、資源消耗低、環境汙染少、人（rén）力資源優勢得（dé）到充分發揮的新型工業（yè）化路子。
3、依托（tuō）政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型（xíng）企業、高校合作，使得新品能迅速推向（xiàng）市場。
真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真（zhēn）空鍍（dù）膜設備行業等製造業將以信息化融合為（wéi）重心，依靠技術（shù）進步，更加注重技術（shù）能力積累，製（zhì）造偏向服務型，向世（shì）界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。
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