真空鍍膜技術的專業（yè）術語和工（gōng）藝

2024-03-04 09:25:21

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1.1真空鍍（dù）膜:在真空條件下在基材上製備（bèi）薄膜層的方法。

1.2底物:膜（mó）層受體。

1.3測試（shì）基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或測試的基材。

1.4塗層（céng）材料:用於製作塗層的原材料（liào）。

1.5蒸發材料（liào）:真空蒸發（fā）中（zhōng）用於蒸發的塗層材料。

1.6濺射材料:真空濺射中用於濺射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層的材料。

1.8蒸發（fā）速率（lǜ）:在給定的時間（jiān）間隔內，物質的蒸發量除以該時間間隔

1.9濺射率:在給（gěi）定時間間隔內濺射出的材料量除以該時間間隔。

1.10沉積速率:在給（gěi）定時間（jiān）間隔內沉積在襯底上的（de）材料量，除以時間間隔和襯底表麵（miàn）積。

1.11塗層角:顆粒入射到基材（cái）上的方（fāng）向與被塗層（céng）表麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸發（fā）鍍膜:使塗層（céng）材料蒸發的真空鍍膜（mó）工藝。

2.1.1同時蒸發:利用（yòng）多台蒸發器將各種蒸發物質（zhì）同時蒸發到基材（cái）上的真（zhēn）空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發場同時蒸發出來的材料沉積在基片（piàn）上的真空蒸發過程(該過（guò）程應用（yòng）於大規模蒸發，以達到理想的膜厚分布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材料通過與（yǔ）氣體（tǐ）反（fǎn）應而達到理想化學成分（fèn）的真空蒸發。

2.1.4蒸發器反應真空蒸發（fā）蒸發器（qì）反應真空（kōng）蒸發:與蒸發器內（nèi）各種蒸（zhēng）發物質發生反應，得到理想化學成分膜層（céng）材料的真空蒸發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸發物料蒸發（fā）所需的熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸（zhēng）發:通過感應渦流加熱使物料蒸發。

2.1.7電子（zǐ）束蒸發:通過電子轟擊加熱材料的蒸發。

真空鍍膜電源