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專業製造真空(kōng)鍍膜(mó)電源

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真空鍍膜電源廠家
MSD係列直流磁控(kòng)濺射電源(yuán)

MSD係列直流磁控濺(jiàn)射電源

  • 所(suǒ)屬分(fèn)類(lèi):MSD係列直流(liú)磁控濺射電源
  • 瀏覽(lǎn)次數:次(cì)
  • 發布日(rì)期:2020-05-21 14:13:28
  • 產品(pǐn)概(gài)述
  • 性能特點(diǎn)
  • 技術參數

主要型號:

型號

功率(kW)

蕞大工作

電流(A)

外形尺寸

冷卻方式

空(kōng)載電壓(V)

工(gōng)作電壓(V)

MSD-10k

10

12.5

1單元


風冷

480*243*565

(WHD)(3U)



1000



150~800V

MSD-20k

20

25

1單元

MSD-30k

30

37.5

2單元

MSD-40k

40

50

2單元

MSD-20k

20

25

1單元



風(fēng)水冷

480*280*580

(WHD)(3U)




1000




150~800V

MSD-30k

30

37.5

1單元

MSD-40k

40

50

1單元

MSD-60k

60

75

2單元

MSD-80k

80

100

2單元

MSD-100k

100

125

3單元

MSD-120k

120

150

3單元


主要特點:
   A 采用先進的電流型開關電源(yuán)技術,減小輸出儲能元件,
同時提高(gāo)了抑製打火及重啟速度,應用(yòng)在鋁靶鍍膜優勢(shì)更為明(míng)顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式(shì)相對於傳統的恒流模式,
更能保(bǎo)證鍍(dù)膜工藝的(de)重複性。
  C 具有理想的電壓(yā)陡降特性,自動識(shí)別偽打(dǎ)火(huǒ)現象,
充分滿足磁控濺射工藝過程(chéng)的連(lián)續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接(jiē)口控製,可選(xuǎn)配(pèi)RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的(de)PWM脈寬調製技術,使用(yòng)進口IGBT或MOSFET作(zuò)為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝(yì)嚴格完善。
該係列產(chǎn)品采用先進的DSP控製係統,充(chōng)分保證鍍膜工藝(yì)的重複(fù)性,
並且具有抑製靶材弧光放電(diàn)及抗短(duǎn)路功能,
具有極佳的(de)負載匹配能力(lì),既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主(zhǔ)要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現(xiàn)自動化控製。


主要用途:

直(zhí)流磁(cí)控濺射用於鍍製各種金屬



在電(diàn)子科技快速發展的時代中,電源的應用可(kě)以說是隨處可見的,或許正是因為(wéi)電源的普遍應用,所以(yǐ)電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多(duō)電源(yuán)類型中的一種,這種電源與普通的電源有(yǒu)一定的區別,單是電源的外觀就有明顯(xiǎn)的(de)不同。

真空鍍(dù)膜電源,

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的(de)嗎?當(dāng)光線進入不同傳遞物(wù)質時(shí)(如由空氣進入玻璃),大約有5%會被反(fǎn)射掉,在光(guāng)學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡,整個加起(qǐ)來可以讓入射(shè)光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多(duō)層氟化鎂的(de)增透膜,單層增透膜可使(shǐ)反射減少至1.5%,多層增透(tòu)膜則可讓反射降低至0.25%,所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜,光線透穿率可(kě)達95%。鍍了單層增透膜的(de)鏡片通常是藍紫色或是紅色,鍍多層增透膜的鏡片則呈淡(dàn)綠色或暗紫色。


真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中,在不同介質的分界麵上,由於邊界條件的(de)不同(tóng),改變了其能量(liàng)的(de)分布。對於單層薄膜來說,當增透膜兩邊(biān)介質不同(tóng)時,薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率(lǜ)n=(n1*n2)^(1/2)時(分別是介質(zhì)1、2的折射率(lǜ)),才可以使入射光全部透過(guò)介質。一般光學透鏡都是在空氣中使(shǐ)用,對於一般折射率在(zài)1.5左右的光學玻璃,為使單層膜達到100%的增透效果,可使n1=1.23,或接近1.23;還要使增透薄膜的(de)厚度=(2k+1)倍四分之一(yī)個波長。單層(céng)膜隻對某一特定波長的電磁波增透,為使在更大(dà)範圍內(nèi)和更多波長實現增透,人們利用鍍多層膜來實現。


人們對增透膜的利用有(yǒu)了很多的經驗,發現了不少可以作為增透膜(mó)的材料;同時也掌(zhǎng)握了(le)不少先進的鍍膜技術,因此增透膜(mó)的應用涉及醫學、軍事、太空探索(suǒ)等各行各業,為人類科技進步作出了(le)重大貢(gòng)獻。


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