江蘇MSDP單極脈衝磁控濺射（shè）電源

所屬分類：江蘇MSDP單極脈衝磁控濺射電（diàn）源
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發布日（rì）期：2020-10-21 09:43:33

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產（chǎn）品概述
性能特點
技術參數

主要型號：

型號	功率 (kW)	最大工作電流(A)	外形尺寸	冷卻方式	空載（zǎi）電壓 (V)	工作電壓 (V)
MSDP-10k	10	12.5	1單元	風冷（lěng）	1000	200~800V
MSDP-20k	20	25	1單元
MSDP-30k	30	37.5	2單元
MSDP-40k	40	50	2單（dān）元（yuán）

主要特點：
A 明顯改善靶麵（miàn）電荷積累現象（xiàng），減小濺射表麵的打火次數，提（tí）高膜層質量。
B 具（jù）有平均電源穩定功能，具有理想的電（diàn）壓陡降特性，
充分（fèn）滿足磁控濺射工藝（yì）過程的（de）連續性。
C 空載電壓≥1000V，工作電壓（yā）200~800V。
D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
E 可選擇手動控製/模擬量接（jiē）口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝（yì）的（de）重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保證了（le）靶麵清洗工藝的穩（wěn）定（dìng）性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維護（hù），可靠（kào）性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方（fāng）便實現自動化控製（zhì）。

主要（yào）用途：

單極脈衝磁控濺射適用於金屬（shǔ）、合金及石墨等（děng）靶材（cái）鍍製金屬（shǔ）膜、碳（tàn）膜和部分氧化物、氮化物（wù）及碳化物膜。

鏡片在接（jiē）受鍍膜前必須進（jìn）行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采（cǎi）用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內（nèi），在此過程中要特別注意避（bì）免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍（dù）前進行的，放置在真空艙內的離（lí）子（zǐ）槍將轟擊鏡（jìng）片的表麵（例如用氬（yà）離子），完成此道清洗工序後即進行減反（fǎn）射膜的鍍（dù）膜。

真空鍍膜電源為什麽（me）在現在會應用那（nà）麽（me）多呢（ne），有哪些明顯的效果？

真空（kōng）鍍膜（mó）電源

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在高（gāo）真（zhēn）空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發（fā）並凝結於鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一（yī）種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金（jīn）屬(或介質)薄膜的（de）工藝（yì）過程。在光學零件表麵（miàn）鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振（zhèn）等要（yào）求。常用的（de）鍍（dù）膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的（de）一種)和化學鍍膜。