江蘇（sū）MSB中頻磁控濺射真空鍍膜電源

所屬分類：江蘇MSB係列中頻電源
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發（fā）布日期（qī）：2020-10-21 09:42:08

我要詢價

產品概述（shù）
性能特點
技（jì）術參數

主要型（xíng）號：

型號	功率(kW)	最大工作電流(A)	外形（xíng）尺寸	冷卻方式	空（kōng）載電壓(V)	工作電壓(V)
MSB-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	150~800V
MSB-20k	20	25	1單元
MSB-30k	30	37.5	2單元
MSB-40k	40	50	2單（dān）元
MSB-20k	20	25	1單元	風水（shuǐ）冷	1000	150~800V
MSB-30k	30	37.5	1單元
MSB-40k	40	50	1單元
MSB-60k	60	75	2單元
MSB-80k	80	100	2單元
MSB-100k	100	125	3單元
MSB-120k	120	150	3單元

主要特點：

A 采用先進的電流型開關電源（yuán）技術，減小輸出儲能（néng）元件，
同時提高了抑（yì）製打火及重啟速度（dù），應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
B 具備恒（héng）流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流（liú）模式，
更能保（bǎo）證鍍膜（mó）工藝的重複性。
C 具有理想的電壓陡（dǒu）降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
D 主（zhǔ）要參數（shù）可大範（fàn）圍調節
E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產（chǎn）工（gōng）藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控製係（xì）統，充分保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短路功能，
具有極佳的（de）負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定（dìng）性，又（yòu）提高了靶麵清洗速度（dù）；
主要（yào）參數（shù）均可大範圍連續調（diào）節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

MSB係列雙極脈衝磁控濺射電源（中頻電源）

主（zhǔ）要（yào）用途：

雙極脈衝磁控濺射（shè）電源用於中（zhōng）頻孿生靶磁（cí）控濺金屬或（huò）非金屬材料，特（tè）別適合於反應磁控濺射。能增加離化率（lǜ），減少（shǎo）電荷積累引起的異常放電，預防靶表麵中毒現象。

離（lí）子源電（diàn）源

真（zhēn）空鍍膜電源設備

真空鍍膜電源設備

在真空鍍膜電源時，使用（yòng）直流負偏壓電（diàn）源（yuán），其中運用直流電源，這個電源的電子方向一直統一，會導致單一品種電荷堆積過高與控製源中和（hé）。也（yě）就是說（shuō）用來提供動（dòng）力的正負極被中和了。然後磁控濺射將不（bú）再持續。所以選用脈衝電源。

在真空中製備膜層，包含鍍製晶態的金屬、半導（dǎo）體、絕緣體等（děng）單質或（huò）化合物膜。雖然化學汽相堆積也選用減壓、低壓或等離子體等真空手法，但一般真空鍍膜是指用物（wù）理的辦（bàn）法堆積薄膜。真空鍍膜有三種方式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜（mó）和離子鍍。

真空鍍膜技能初現（xiàn）於20世紀30年代，四五十年代開端呈現（xiàn）工業使用，工業化大規模出產開端於20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中獲得（dé）廣泛的使用。真空鍍膜（mó）是指在（zài）真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的方式堆積到（dào）資料外表（通常是非金屬資料），歸於物理氣相堆積工（gōng）藝。由於鍍層常（cháng）為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包含在金屬（shǔ）或非金屬資（zī）料外表真空蒸（zhēng）鍍聚合物等（děng）非金屬功用性薄膜。在所有被鍍（dù）資猜中，以塑料樶為常見，其次，為紙（zhǐ）張鍍膜。相（xiàng）對於（yú）金屬、陶瓷、木材等資料，塑料具有來曆充（chōng）足、性能易於調控、加工方便等優勢，因此品種繁多的塑料或其他高（gāo）分子資料作為工程（chéng）裝修性結構資料，大量使用於轎車（chē）、家電、日用（yòng）包裝、工藝裝修等工業領域。但塑料（liào）資料大多存在外表硬（yìng）度不高、外觀不（bú）行華麗、耐磨性低等缺點，如在塑料外表蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑（sù）料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加資料外表耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝修性（xìng）和使用範（fàn）圍。

真空鍍膜的（de）功用是多方麵的，這也決議了其使用場合非常豐富。整體來說，真空鍍膜的主要功用包含賦予被鍍件外表高度金屬光澤和鏡麵效果，在薄膜資料上（shàng）使膜層具有超卓的隔絕性能，提供（gòng）優異的電磁（cí）屏蔽和導電（diàn）效果。