上海MSDP單極脈衝磁控（kòng）濺射電源

所屬分類：上海MSDP單極脈（mò）衝磁控濺（jiàn）射電（diàn）源
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發（fā）布日期：2020-10-21 09:43:33

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產品概述（shù）
性能特點（diǎn）
技（jì）術參數

主要型號：

型號	功率 (kW)	最大工作電（diàn）流（liú）(A)	外形尺寸	冷卻方（fāng）式	空載電壓（yā） (V)	工作電壓（yā） (V)
MSDP-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	200~800V
MSDP-20k	20	25	1單元
MSDP-30k	30	37.5	2單元
MSDP-40k	40	50	2單元

主要特點：
A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表（biǎo）麵的打火次數，提（tí）高膜層質量。
B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分（fèn）滿（mǎn）足磁控濺射工藝（yì）過程的連續性。
C 空載（zǎi）電壓≥1000V，工作（zuò）電壓200~800V。
D 頻率40kHz，占空（kōng）比20%~80%。
E 可（kě）選擇手動控製/模擬量（liàng）接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口（kǒu）。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術（shù），使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑（yì）製（zhì）靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保證了靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性，又（yòu）提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主（zhǔ）要參數均可大範圍連續（xù）調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

單極脈衝（chōng）磁控濺射適用（yòng）於金屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮（dàn）化物及碳化（huà）物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進（jìn）行（háng）預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在（zài）清洗槽中分別放置各種清洗液，並（bìng）采（cǎi）用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗（xǐ）完後，放進真空艙內，在此過程中要（yào）特別注意避免空氣中的灰（huī）塵和垃圾再黏附在鏡片（piàn）表（biǎo）麵（miàn）。最後的清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空（kōng）氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清（qīng）洗是（shì）在真空艙內鍍前進行的，放（fàng）置在真（zhēn）空艙（cāng）內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清（qīng）洗工序（xù）後即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什麽在現在會應（yīng）用那麽（me）多呢，有哪（nǎ）些明（míng）顯的效果？

真（zhēn）空鍍膜電（diàn）源

概（gài）念的區別（bié）：

1、真空鍍（dù）膜是指在高真空的條件下（xià）加熱金屬（shǔ）或（huò）非金屬材料，使其蒸發並（bìng）凝結於鍍件（金屬、半導體或絕（jué）緣體）表麵而形成（chéng）薄膜（mó）的一種方法。例如，真空鍍（dù）鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜（mó）是指在（zài）光學零件表麵上鍍上一層（céng）(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光（guāng）學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或（huò）增加光的反射、分束、分色、濾（lǜ）光（guāng）、偏振等要（yào）求。常用的（de）鍍（dù）膜法有真空鍍膜(物（wù）理鍍膜的一種)和化（huà）學鍍膜。