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主要型（xíng）號：
型號 | 功率(kW) | 最大工作電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 | 空載電壓(V) | 工作電壓(V) |
MSB-10k | 10 | 12.5 | 1單元 | 風冷 | 1000 | 150~800V |
MSB-20k | 20 | 25 | 1單元（yuán） | |||
MSB-30k | 30 | 37.5 | 2單元 | |||
MSB-40k | 40 | 50 | 2單元（yuán） | |||
MSB-20k | 20 | 25 | 1單元 | 風水冷 | 1000 | 150~800V |
MSB-30k | 30 | 37.5 | 1單元 | |||
MSB-40k | 40 | 50 | 1單元（yuán） | |||
MSB-60k | 60 | 75 | 2單元 | |||
MSB-80k | 80 | 100 | 2單（dān）元 | |||
MSB-100k | 100 | 125 | 3單元 | |||
MSB-120k | 120 | 150 | 3單元 |
主要特點：
A 采用先進的電流型開關電源技術，減（jiǎn）小輸出儲能元件，
同時提高了抑製打火及重啟速度（dù），應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相（xiàng）對於傳統的恒流模式，
更能（néng）保證鍍膜工藝的重（chóng）複性。
C 具有理想的電壓陡（dǒu）降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性（xìng）。
D 主要（yào）參數可大（dà）範圍調（diào）節
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用（yòng）先進的PWM脈寬（kuān）調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可（kě）靠（kào），生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有（yǒu）抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。
MSB係列（liè）雙極脈衝磁控濺射（shè）電源（中（zhōng）頻電源）
主要用途：
雙極（jí）脈衝磁控濺射電源用於中頻孿生靶磁控濺金屬（shǔ）或非金屬材料，特別適合於反（fǎn）應磁控濺射。能增加離化率，減少電荷積（jī）累引起的異常放電（diàn），預防靶表麵（miàn）中（zhōng）毒現象。
在真空鍍膜電源時（shí），使用直流負偏壓電源，其中運用直流電源，這個電源的電子方向（xiàng）一直統一，會導致單一品種電荷堆積過高與控製源中和。也就是說用來提供動（dòng）力（lì）的正負極被中和了。然後磁控濺射將不再（zài）持續。所以（yǐ）選用脈衝電源。
在真空中製備膜層，包含鍍製晶（jīng）態的金屬（shǔ）、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化（huà）學汽相堆積也選用減壓、低壓或等離子體等真空手法，但一（yī）般（bān）真空鍍膜是（shì）指用物理的辦法堆（duī）積薄膜。真空鍍膜有（yǒu）三種方式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
真空鍍膜技能初現於20世紀30年代，四五十年代（dài）開端呈現工業使用，工業化大規模出產開端於20世（shì）紀（jì）80年代，在電子、宇航（háng）、包裝、裝潢（huáng）、燙金印刷等工業中獲得廣泛的使用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某（mǒu）種金屬或金屬化合（hé）物以氣相的方式（shì）堆積到資（zī）料外表（通常是非金屬資料），歸於物理氣相堆積工藝。由於鍍層（céng）常為金屬薄膜，故也（yě）稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包含在金屬或非金屬資料外表真空（kōng）蒸鍍（dù）聚合物等非金屬功用性薄膜（mó）。在所有被鍍（dù）資猜中，以塑料樶為常見，其次，為（wéi）紙張鍍膜。相對於金屬（shǔ）、陶瓷、木材等資料，塑料（liào）具有來曆充足、性能易於調控、加工方便等優勢，因此品種（zhǒng）繁多的塑（sù）料或其他高分子資料作為工程裝（zhuāng）修性結構資料，大量使用於轎車、家電（diàn）、日用包裝、工藝裝修等工業領域（yù）。但塑（sù）料資料大多存在外表硬度不（bú）高、外觀不行華麗、耐磨性低等缺（quē）點，如在塑料外表蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即（jí）可賦予（yǔ）塑料程亮的金屬外觀（guān），合適的金屬源還可大大增加資料外表耐磨性能（néng），大大拓寬了塑料的裝修性和使用範（fàn）圍。
真空鍍（dù）膜的功用是（shì）多方麵的，這也決議了其使用場合非常豐富。整體來說，真（zhēn）空鍍膜的主要功（gōng）用包含（hán）賦予被鍍件外表高（gāo）度金屬光（guāng）澤和鏡麵效果，在薄膜資料（liào）上（shàng）使膜（mó）層具有超卓的隔絕（jué）性能，提（tí）供優異的電磁（cí）屏蔽和導電效果。
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