武漢MSDP單極脈衝磁控濺射電源

所（suǒ）屬分類：武漢MSDP單極脈衝磁控濺射電源
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發布日期：2020-10-21 09:43:33

我要詢價（jià）

產品概述
性能特點
技術參數

主要型號：

型號	功率（lǜ） (kW)	最（zuì）大（dà）工作電流(A)	外（wài）形尺寸	冷卻方式	空（kōng）載電壓 (V)	工作電壓 (V)
MSDP-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	200~800V
MSDP-20k	20	25	1單元
MSDP-30k	30	37.5	2單元
MSDP-40k	40	50	2單元

主要特（tè）點：
A 明顯改善靶麵電荷積累現象，減小濺射表（biǎo）麵的（de）打火次數（shù），提高膜層質量。
B 具有平均（jun1）電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特（tè）性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連（lián）續性。
C 空載（zǎi）電壓≥1000V，工作電（diàn）壓200~800V。
D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完善（shàn）。
該係列產品采用先進的（de）DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑（yì）製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹（pǐ）配能（néng）力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清（qīng）洗（xǐ）速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製（zhì）。

主（zhǔ）要用途：

單極（jí）脈衝磁控濺射適用於金屬、合（hé）金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧（yǎng）化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片（piàn）在接受鍍膜前必須（xū）進行預清洗，這種清（qīng）洗（xǐ）要求很高（gāo），達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲（shēng）波加強清洗效果，當鏡片清（qīng）洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵（miàn）。最後（hòu）的清洗是在真空艙內（nèi），在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏（nián）附在鏡（jìng）片表麵。最後的清洗（xǐ）是在（zài）真空艙內鍍（dù）前進行的，放置（zhì）在真（zhēn）空艙內的離子槍（qiāng）將轟擊鏡片（piàn）的表麵（例如用（yòng）氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜。

真空（kōng）鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的（de）效果？

真（zhēn）空鍍膜電源

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬（shǔ）材料，使其蒸發並凝（níng）結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵（miàn）而形成薄（báo）膜的一種方法。例（lì）如，真空鍍鋁、真空（kōng）鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表（biǎo）麵上鍍上一層(或多層（céng）)金屬（shǔ）(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜（mó）的目的是為了達到減（jiǎn）少或增加光（guāng）的反射、分束、分色、濾光、偏振（zhèn）等要求。常用的（de）鍍膜法有真（zhēn）空鍍膜(物（wù）理鍍膜的一種)和化學鍍膜。