武漢MSB中頻磁控濺射真空鍍（dù）膜電源

所屬分類：武漢MSB係列中（zhōng）頻電源
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發布日期：2020-10-21 09:42:08

我要詢價

產品概述
性能（néng）特點
技術參數

主要型號：

型號	功率（lǜ）(kW)	最大工作電流(A)	外形尺寸	冷卻方式	空載電壓(V)	工作電壓(V)
MSB-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	150~800V
MSB-20k	20	25	1單元
MSB-30k	30	37.5	2單元
MSB-40k	40	50	2單元
MSB-20k	20	25	1單元	風水冷	1000	150~800V
MSB-30k	30	37.5	1單元
MSB-40k	40	50	1單元
MSB-60k	60	75	2單元
MSB-80k	80	100	2單元
MSB-100k	100	125	3單元
MSB-120k	120	150	3單元

主要特點：

A 采（cǎi）用先進的電流型開關電源技術（shù），減小輸出儲（chǔ）能元件，
同時提高了抑製打火及（jí）重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率（lǜ）模式相對於傳統的恒流模式（shì），
更能（néng）保證鍍膜工藝的重（chóng）複性。
C 具有（yǒu）理（lǐ）想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控（kòng）濺射工藝過程的（de）連續（xù）性（xìng）。
D 主（zhǔ）要參數可（kě）大範圍調節
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分（fèn）保證鍍膜（mó）工藝的（de）重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主要參（cān）數均可大（dà）範圍連續調節；
方便維護，可（kě）靠性（xìng）高（gāo）；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方便實現（xiàn）自動化控製。

MSB係（xì）列雙極脈衝磁控濺射電源（中頻電源）

主要用途：

雙極脈衝（chōng）磁控濺射（shè）電源（yuán）用於中頻孿生靶磁控濺金屬（shǔ）或非金屬材料，特別適（shì）合於反應磁控濺（jiàn）射。能增加離（lí）化率，減少電荷積累引起的異常放電，預防靶（bǎ）表麵中毒現象。

離子源電源

真空鍍膜電源設備

真空鍍膜電源（yuán）設（shè）備

真空鍍膜電源設備

在真空鍍膜電源時，使用直流負偏壓電源，其中運（yùn）用直流電源，這個（gè）電（diàn）源的電子方向一直統一，會（huì）導致單一品種電荷堆積過高與控（kòng）製源中和。也就是說用來提供動力的（de）正負極被中和了。然（rán）後磁控濺射（shè）將不再持續。所以選用脈衝電源（yuán）。

在真空中製備膜層（céng），包含鍍製晶態的金（jīn）屬、半導體、絕緣體等單（dān）質（zhì）或化（huà）合物膜。雖（suī）然化學汽相堆（duī）積也選用減壓、低壓或等離子體等真空手法（fǎ），但一般真空鍍膜是指用物理的辦法堆積薄膜。真空鍍膜有三種方式，即蒸發鍍膜、濺射（shè）鍍膜和離子（zǐ）鍍。

真空（kōng）鍍膜技能初現於20世紀30年代，四（sì）五十年代開端呈現工業使用，工業化大（dà）規（guī）模出產（chǎn）開端於20世紀80年代，在（zài）電子、宇航、包裝、裝潢、燙金（jīn）印刷等工業中獲得廣泛的使用。真空鍍膜是指在真空環（huán）境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的方式堆積到（dào）資料外（wài）表（通常（cháng）是非金屬資料），歸於物理氣相堆積工藝。由於鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包含（hán）在金屬或非金屬資料外表真空蒸（zhēng）鍍聚合物等非金屬功用性薄膜。在所有被鍍資猜中，以塑料樶為（wéi）常見，其次，為紙張鍍膜。相對（duì）於金屬、陶瓷、木材等資料，塑料具（jù）有來曆充（chōng）足、性能易於（yú）調控、加工方便等（děng）優勢，因此品種繁多的塑料或其他高（gāo）分子資料作為（wéi）工程裝修性結構資料，大量使用於轎車、家電、日用包裝、工藝裝修（xiū）等工（gōng）業領域。但塑料資料大多存在外表硬度不高、外觀不行華麗、耐磨性低等缺點，如在塑料外表蒸鍍一（yī）層極（jí）薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的（de）金（jīn）屬源還可大大增加（jiā）資料（liào）外表耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝修性和使用範圍（wéi）。

真空鍍膜的功用是多方麵的，這也決議了其使用（yòng）場（chǎng）合非常豐富。整體來說，真（zhēn）空鍍膜的主要功（gōng）用（yòng）包含賦予被（bèi）鍍件外表高度金屬光澤和鏡麵效（xiào）果，在薄膜資料上使膜（mó）層（céng）具有超卓的隔絕性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。