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主要型(xíng)號:
型號 | 功率(W) | 工作電(diàn)壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特(tè)點:
A 可選擇三角(jiǎo)波、矩形波、正弦波三種波形,波形(xíng)的最高值和最低值可獨(dú)立設置。
B輸(shū)出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻(pín)率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製(zhì)/模擬量接口控製,可選配RS485通(tōng)訊接口。
采用(yòng)先進的(de)PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定(dìng)可靠(kào),生(shēng)產工藝嚴格(gé)完善。
該係列產品采用先進的(de)DSP控製係統,充分保證鍍膜(mó)工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能,
具(jù)有極(jí)佳的(de)負載匹配能力,既保(bǎo)證了靶麵(miàn)清洗工藝的穩定性,又(yòu)提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節(jiē);
方便(biàn)維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方(fāng)便實現自動化控(kòng)製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選(xuǎn)擇多種電壓波形輸出。通過驅動多(duō)弧靶外圍(wéi)磁場線圈(quān),產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原(yuán)來的(de)集中(zhōng)放(fàng)電(diàn)變為均勻放(fàng)電,提(tí)高工件膜(mó)層質量

真空鍍膜電源廠(chǎng)家告訴你高頻開(kāi)關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經(jīng)接受,具(jù)有廣闊的市場前景。但(dàn)產品主要局限於1500A以下的中小功率領域,在(zài)國內也隻有少量廠家生產,從技術角度(dù)看主要限於硬開關變換模式和模擬(nǐ)控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方(fāng)麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關(guān)式電源的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條(tiáo)件下(xià)加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵,在(zài)真空中以真空(kōng)技術為基礎,把物(wù)理(lǐ)方法和(hé)化學方法利用起來(lái),通過吸收分子束、離子束、電(diàn)子束(shù)、等離(lí)子束、射頻和磁控等一係列高新(xīn)技術,在科學研究和實際生產中,為薄膜製備提(tí)供一種新(xīn)工藝,簡(jiǎn)單的一點來說,要在真空中利用合金、金(jīn)屬(shǔ)或化合物進(jìn)行蒸發和濺射(shè),並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固(gù)並沉積(jī),這種方法稱為真空(kōng)鍍膜,那真空(kōng)鍍(dù)膜電源就可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵上鍍上一層薄膜,就可以使這種(zhǒng)材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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