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主要型號：
型號 | 功率(W) | 工作電壓（V） | 蕞大峰值電（diàn）流（A） | 外（wài）形尺（chǐ）寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特（tè）點：
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波（bō）形（xíng），波形的蕞（zuì）高值和蕞低值可獨立設置。
B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
C波形頻率範圍：0.1-50Hz
D三角波、矩（jǔ）形波占空比（bǐ）10%~90%
E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配（pèi）RS485通（tōng）訊接口。
采用先進的PWM脈寬（kuān）調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統（tǒng），充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短（duǎn）路功能，
具有極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度（dù）；
主要參數（shù）均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維（wéi）護（hù），可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。
主要用途：
MS係列勵磁多波形（xíng）電源（yuán）選擇多種電壓（yā）波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性可變磁磁場，使多弧輝光由原（yuán）來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜層質量
在真空鍍膜時，使（shǐ）用（yòng）直流（liú）負偏壓電源（yuán），其中運用直流電源，這個電源的電子方向一直統一（yī），會導致單一品種電荷（hé）堆積過高與控製源（yuán）中和。也就是說用來提供動力（lì）的正負極被中和了。然後磁控濺射將不再持續（xù）。所以選用脈衝電源。真（zhēn）空鍍膜一種由物理辦法發生薄膜（mó）資料的技能。在真空室內資料的原子從加熱源離析（xī）出來打（dǎ）到被鍍物體的（de）外表上。此項（xiàng）技能樶先用於出產光學（xué）鏡片，如航海望遠（yuǎn）鏡鏡片等。後（hòu）延伸到其（qí）他功用薄膜，唱片（piàn）鍍鋁、裝修鍍膜和（hé）資料外表改性等（děng）。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的（de）原子（zǐ）從加熱源離析出（chū）來（lái）打到被鍍物體的表麵上。
(1)在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，必須先開水管，工作中應隨時注意水壓。
(2)在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。
(3)在用電子槍鍍膜時，應在鍾罩外圍上鋁板。觀察窗（chuāng）的玻璃樶好用（yòng）鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。
(4)鍍製多（duō）層介質（zhì）膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時（shí）排除有害粉塵。
(5)易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
(6)酸洗（xǐ）夾具應在通風裝置內進行，並要戴橡皮手套。
(7)把（bǎ）零（líng）件放入酸洗或堿（jiǎn）洗槽中時（shí），應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。
(8)工作完畢應斷電、斷水（shuǐ）。
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