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主(zhǔ)要型號:
型(xíng)號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大(dà)峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方(fāng)式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷(lěng) |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波(bō)三種波形,波形(xíng)的最高值和最低值可(kě)獨立設置。
B輸出(chū)電(diàn)壓範圍:-40V~+40V。
C波(bō)形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比(bǐ)10%~90%
E 可選擇(zé)手(shǒu)動控(kòng)製/模擬量接口控製,可(kě)選配RS485通訊接(jiē)口。
采(cǎi)用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係(xì)列產品采用先進的DSP控製(zhì)係統,充分保證(zhèng)鍍膜工藝的重複性,
並且(qiě)具有抑製靶材弧光(guāng)放電及抗短路(lù)功能(néng),
具(jù)有極佳的負載(zǎi)匹配能力,既保證了靶(bǎ)麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗(xǐ)速度;
主要參數均可大範圍連續調節(jiē);
方便維護,可(kě)靠性高;
PLC接口(kǒu)和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波(bō)形電源選擇(zé)多種電壓波形輸出。通過(guò)驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧(hú)輝光由原來的集中放電變為均勻放電,提(tí)高工(gōng)件(jiàn)膜層質量

真(zhēn)空鍍膜電源廠家告(gào)訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣闊的市場(chǎng)前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率(lǜ)領域,在國內也隻有少量廠家生產(chǎn),從技術角(jiǎo)度(dù)看主要限於硬(yìng)開關變換模(mó)式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝(yì)結構等方麵(miàn)具有明顯的局限性(xìng),同焊接等領域全麵推廣應用開關式電(diàn)源的(de)景況具(jù)有較大差距。
真(zhēn)空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金(jīn)屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而(ér)形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用(yòng)領域的重要方麵,在真空中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子(zǐ)束、離子束、電子(zǐ)束、等離子(zǐ)束(shù)、射頻和磁控等一係列高新(xīn)技術,在科(kē)學研(yán)究和實際(jì)生產中,為薄膜製備提供一種新工(gōng)藝,簡單的一點來(lái)說,要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸(zhēng)發和濺射(shè),並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體(tǐ)等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那(nà)真空鍍膜電源就可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵上鍍上一層薄(báo)膜,就可以使這種(zhǒng)材料具有多種性能,例如良好的(de)物理和化學性能並且是嶄新的;
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