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主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 蕞大峰值電流(A) | 外(wài)形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可(kě)選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的蕞高值和蕞低值可獨立設置。
B輸出電壓範(fàn)圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控(kòng)製/模擬量接口控製(zhì),可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕(qīng)、功能全、性能穩定可靠,生產工(gōng)藝嚴格完善。
該係列產品采用先進(jìn)的DSP控(kòng)製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧(hú)光放電及抗短路功能,
具有極佳的負(fù)載匹配能力(lì),既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高(gāo)了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍(wéi)連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能(néng),方便實現自動化控(kòng)製。
主要用途:
MS係列勵磁多(duō)波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁(cí)場線圈,產生周(zhōu)期性可變磁磁場,使多弧(hú)輝光由原來的集中放電變為均勻放電,提高工(gōng)件膜層質(zhì)量

現在工業區,在範圍上擴展(zhǎn)的是越來越廣(guǎng),跟隨我們行業的發(fā)展,現在機械設備研發的是(shì)越來越多,當然啦,研發那麽多,在一些加工廠家肯定是要應用到的啦,在範圍上,在數量上都不會少,現在我們來了解下真空鍍膜電源這項項目吧!

1、在光學儀器中:人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相(xiàng)機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡(jìng)等,它們都離不開鍍膜技術,鍍製的薄(báo)膜有反(fǎn)射(shè)膜、增透膜和吸收膜等幾種(zhǒng)。
2、在信息存(cún)儲領域中:薄膜材料作為信(xìn)息記錄於存儲(chǔ)介質,有其得天(tiān)獨厚的(de)優勢:由於薄膜很薄,可以忽略渦(wō)流損耗;磁化反轉極為迅速;與膜麵平(píng)行的雙穩態狀態容易保(bǎo)持等。為了更精密地(dì)記(jì)錄與存儲(chǔ)信息,必然要采用鍍膜(mó)技術(shù)。
3、在傳感器方麵:在傳感器中,多采用那些(xiē)電氣性質相對於(yú)物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō),極為敏感的半導體材料。此外,其中,大多數利用的是半導體的表麵、界麵的性質,需(xū)要盡量增(zēng)大其麵積,且能工業化、低價格製作(zuò),因此,采用薄膜的情況很多。
4、在集成電路製造中:晶(jīng)體管路中的保護層(céng)(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶矽、鋁、銅及其合金)等,多是(shì)采用CVD技術、PVCD技術(shù)、真空蒸發金屬(shǔ)技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見,氣相沉積是製備集成電路的(de)核心(xīn)技術之一。
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