武漢MS係（xì）列勵磁多波形（xíng）電源

所屬分類：武漢MS係列（liè）勵磁多波形電源（yuán）
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發（fā）布日期：2020-05-21 14:12:19

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產品概述
性能特點
技術參數

主要型號：

型號（hào）	功率(W)	工作電（diàn）壓（V）	蕞大峰值電流（A）	外形尺寸	冷卻方式
MS-10A	400W	-40~+40	-10~+10	482175550 (WHD)[4U]	風冷
MS-20A	800W	-40~+40	-20~+20
MS-30A	1200W	-40~+40	-30~+30

主要特點：
A 可選（xuǎn）擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的蕞高值和蕞（zuì）低值可獨立設置。
B輸出電壓（yā）範圍：-40V~+40V。
C波形頻率範圍：0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比（bǐ）10%~90%
E 可選（xuǎn）擇手動（dòng）控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功（gōng）能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有（yǒu）抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高（gāo）了靶麵清（qīng）洗速（sù）度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可（kě）靠性高；
PLC接口（kǒu）和RS485接口（kǒu）擴（kuò）展功能，方便實現自（zì）動化控（kòng）製。

主要用途（tú）：

MS係列勵磁多波形電（diàn）源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性可變磁（cí）磁場，使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電，提（tí）高工件膜層質量

現在工業區，在範（fàn）圍（wéi）上（shàng）擴展的是越來越廣（guǎng），跟（gēn）隨我們行業的（de）發展，現在機械設備研發的是（shì）越來越多，當然啦（lā），研發那麽多，在一些加工（gōng）廠家肯定是要應用到的啦，在範（fàn）圍上，在數量上都不會少，現在我們來了解（jiě）下真空鍍膜電源這項項目（mù）吧！

真空鍍膜電源

1、在光學（xué）儀器中：人（rén）們熟悉的光（guāng）學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相（xiàng）機、測距儀，以及日常生活用（yòng）品中的鏡子（zǐ）、眼鏡、放大（dà）鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍製的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

2、在信息存儲領域中：薄膜材料作為（wéi）信息記錄於存儲介質，有其（qí）得天獨（dú）厚的優勢：由於（yú）薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁（cí）化反轉極為迅速；與膜（mó）麵平行的雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用（yòng）鍍膜技術。

3、在傳感器方麵：在傳感器中，多（duō）采用那些電（diàn）氣性質相對於物理量、化學量及（jí）其變化來說，極為（wéi）敏感的半導體材料。此外，其中，大多數利用的是半導體的表麵（miàn）、界麵的性質（zhì），需（xū）要盡量增大其麵積，且（qiě）能工業化、低價（jià）格製作，因此，采用（yòng）薄膜的情況很（hěn）多。

4、在集成電路製（zhì）造中：晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（xiàn）（多晶矽、鋁、銅及其合金）等，多是（shì）采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技（jì）術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉積（jī）是（shì）製備集成電路的核心技術之一。